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酞菁|含羧酸基團的外周四取代酞菁的合成、表征及光物理化學性質
發布時間:2022-02-17     作者:酞菁   分享到:

合成了含羧酸基團的外周四取代無金屬(H2Pc)、Mg(II) (MgPc)和In(III)CI (InPc)酞菁化合物,并利用多種光譜技術對其進行了表征。


研究了這些化合物在DMSO、DMF和THF中具有良好的溶解度的光物理、光化學和聚集特性。用DMSO和DMF研究了這些酞菁在不同濃度下的聚集行為。


研究了DMSO和DMF的光物理化學性質,包括熒光光譜、量子產率、單重態產氧和光降解行為,以闡明這些化合物作為光敏劑的可用性。


此外,還研究了金屬離子的存在和不存在對這些酞菁光化學和光物理性質的影響。與無金屬酞菁衍生物相比,金屬酞菁(Mg(II)和In(III)CI)具有較高的單重態產氧效率。


根據單線態產氧效率,我們可以說,金屬離子在酞菁環上的存在增加了單線態產氧。


結果表明,這些化合物在光動力**(PDT)中具有潛在的光敏劑應用前景。


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