超大規模集成電路制造過程中要反復用到的濺射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在高真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。

高純濺射靶材行業產業鏈

高純濺射靶材行業屬于電子材料領域，其產業鏈上下游關系如下：

高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環節，其中，靶材制造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。

在藥物范圍內，濺射靶材產業鏈各環節參與企業數量基本呈金字塔型分布，高純濺射靶材制造環節技術門檻高、設備投資大，具有規模化生產能力的企業數量相對較少，主要分布在美國、日本等國家和地區，其中，部分企業同時開展金屬提純業務，將產業鏈延伸到上游領域；部分企業只擁有濺射靶材生產能力，高純度金屬需要上游企業供應。

濺射靶材產業分布具有一定的區域性特征，美國、日本跨國集團產業鏈完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用各個環節，具備規模化生產能力，在掌握**技術以后實施壟斷和封鎖，主導著技術革新和產業發展；韓國、新加坡及中國臺灣地區在磁記錄及光學薄膜領域有所特長。另外由于上述地區芯片及液晶面板產業發展較早，促使服務分工明確，可以為產業鏈下游的品牌企業提供如焊接、清洗、包裝等藥物代工服務，將上游基礎材料和下游終端應用對接，起到承上啟下的作用，并在一定程度上推動上游濺射靶材的產品開發和市場擴展。但是上述地區的靶材服務廠商缺少核心技術及裝備，不能夠在金屬的提純、組織的控制等核心技術領域形成競爭力濺射靶材的材料即靶坯依然依賴美國和日本的進口。超高純金屬材料及濺射靶材在我國還屬于較新的行業，以芯片制造廠商、液晶面板制造企業為代表的下游濺射鍍膜和終端用戶正在加大力度擴展產能。從藥物來看，芯片及液晶面板行業制造向中國大陸轉移趨勢愈演愈烈，中國正在迎來這一領域的投資高峰。

西安齊岳生物科技有限公司供應各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料，以堅強的技術為基礎，我公司開發了多個系列的新材料，這些產品已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫藥、新能源等行業獲得廣泛應用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產線，生產設備 ，工藝完善。

西安齊岳生物提供的金屬靶材產品按元素分類：

1.鈧元素(Sc):主要產品有高純金屬鈧、金屬鈧靶材、2%Sc-AL合金、20%Sc-Al合金、2%Sc-Mg合金，10%Sc-Mg合金，2.15%Sc-8.8%Ni-8.8%Gd-1.5%Gd合金和其它鈧合金、靶材等.

2.釔元素(Y): 主要產品有工業純度金屬釔、高純度金屬釔、金屬釔靶材、釔鋯合金、釔鋁合金、釔鎂合金和其它釔合金、靶材等.

3.鑭元素(La): 主要產品有工業純度的金屬鑭、金屬鑭靶材、鑭鎳合金、鑭鈰合金、鑭鋁合金及其它鑭合金、靶材等.

4.鈰元素(Ce): 主要產品有工業純度的金屬鈰、金屬鈰靶、鈰-鋁合金、鑭-鈰合金及其它鈰合金、靶材等.

5.鐠元素(Pr): 主要產品有工業純度的金屬鐠、金屬鐠靶材、鐠-釹合金及其它鐠合金、靶材等.

6.釹元素(Nd): 主要產品有工地純度金屬釹、金屬釹靶材、釹-鐵合金、鑭鈰鐠釹合金及其它釹合金、靶材等.釤元素(Sm): 主要產品有高純度金屬釤、金屬釤靶材、釤-鈷合金及其它釤合金、靶材等.

7.銪元素(Eu): 主要產品有高純金屬銪.

8.釓元素(Gd): 主要產品有工業純度的金屬釓、高純度的金屬釓、金屬釓靶材、釓鐵鈷合金、釓鈦鋯合金、釓鈦合金及其它釓合金、靶材等.鋱元素。

包裝及保存說明

1.出庫包裝:內部真空袋真空包裝,外部為定制產品靶材盒,紙箱快遞運輸

2.儲存方法:收到產品后,需儲存于干燥環境,密封包裝,輕拿輕放,防壓防撞

3.使用注意:使用前觀察靶材表面是否清潔,帶上干凈的手套操作, 避免直接用手接觸物料,勿被油污等異物污染

溫馨提示：西安齊岳生物提供各種靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據客戶提供的圖紙要求加工. 并可以為客戶提供部分靶材的定制服務.

西安齊岳生物提供的所有產品僅用于科研，axc.2021.01.21